真空泵廠（chǎng）家分析真（zhēn）空壓（yā）力控製係統如何優化。芯片的刻（kè）蝕工藝通常（cháng）要在一個受控的真（zhēn）空環境下工作，反應腔的功能是在真空環境中保持工藝參數需要的壓力，去除（chú）不需要的水汽、空氣和附加反應物；創建一個能夠使等離子體發生反應的（de）真空環（huán）境。為了降低刻蝕機真空壓力控製係統的成本，實現高真空獲得設備的清（qīng）潔化、簡單化和微型化，同時為了提高（gāo）真空係統的抽氣速率和極限真空，係統中的腔、真空泵以及連接管路和閥（fá）門的選配是很重要的。

刻蝕機（jī）為（wéi）了保證（zhèng）刻蝕工藝需要的穩定工（gōng）作壓力，大抽速真空係（xì）統是必不可少的組成部分。普（pǔ）諾克真空泵廠家詳細地介紹反應腔、真空泵的選擇、真空閥門的選配（pèi）、真空計（jì）和真空檢測開關、真空計和真空檢測開關和連接管路。

真空泵廠（chǎng）家分析真空壓力控製係統如何優化（huà）？要從以下五個方麵展開：

⑴反應腔

反應腔是真（zhēn）空係統的基本部件，不同（tóng）刻蝕的反應腔形狀和大小不同，但都屬於受負（fù）壓的容器。為（wéi）了增加芯片產能的需要反應腔采用的是多（duō）工位設計，這就需要真空（kōng）泵的抽速滿足其要求。多工位設計（jì）要保證多個（gè）工位芯片（piàn）的均勻性是很難的。必（bì）須（xū）加大真空泵的抽（chōu）氣速率，分子泵（bèng）是最好的選擇。根據不同工藝的需要（yào），反（fǎn）應腔的工（gōng）作壓力一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要保證反應腔的真空度，又要（yào）保（bǎo）證（zhèng）工藝氣體的壓力，確保反應腔工作在真空穩定的（de）狀態下，這一直是真空泵廠家研究的課題。

⑵真空泵的（de）選擇

真空泵是獲得真空的關鍵設備，至今還沒有一種泵能從（cóng）大氣壓一直（zhí）工作到接近超真空，必須兩種或以上的泵聯合使（shǐ）用，螺（luó）杆式幹泵（bèng）屬於容積泵類型，其工作循環可分為吸氣（qì）、壓縮和排氣三個過程（chéng），其優點是結構穩定，重心低，轉動平穩，振動小，噪音小（xiǎo）。分（fèn）子泵有牽引分子泵、渦輪分（fèn）子泵和複合（hé）式分（fèn）子泵等，分子泵的選型根據刻蝕反應（yīng）腔壓力和容積的不同而不同（tóng）。

⑶真空閥門的選配

選擇鍾擺閥是為了配合分子泵大口徑（jìng）尺寸的（de）需要，鍾擺閥的開度（dù）大反應（yīng）腔的壓力就減小，但是當開度大到一（yī）定程（chéng）度時，由於泵的抽速有限，反應腔的真空就被（bèi）限製住了，真空壓力就不能繼續減小。所以要選擇鍾擺閥適（shì）合的工作開度，以滿足刻蝕工藝工作壓力的要求。

⑷真空計和真空檢（jiǎn）測（cè）開關

真（zhēn）空計能時刻監控反應腔和管路的壓力，在反應腔和管路上設置真空計，當真空度達到一定值時（shí），開（kāi）啟或關閉真空閥門。真空計的分類主要有兩種方法（fǎ）：①按真計讀數的刻度方法進（jìn）行分類，即絕對真空計和相對真空計；②按真空計測量原理（lǐ）進行（háng）分類，即直接測量真空計和（hé）間接測（cè）量真空計。薄膜式電容真空計是間接測量的絕對真空計，由（yóu）於具有性能穩定，重複性好，而且其（qí）響應速度快，抗過載能力強，結構牢固，使（shǐ）用方便的特點，因此被業界廣泛應用。為了安全考（kǎo）慮，真空管（guǎn）路必須設置大氣真空開關，當壓力（lì）值達到（dào）一個大氣壓時真空（kōng）開（kāi）關自動打開排氣，保護反應腔和管路係（xì）統的真空儀器。

⑸連接管（guǎn）

真空（kōng）係統最重要的性能參數是其所（suǒ）能獲得的極限（xiàn）真空度和對反應腔的（de）有效抽速，真（zhēn）空係統的（de）極限（xiàn）真（zhēn）空度是指（zhǐ）在沒有外加負荷的情況下，經過足夠長時間的抽氣（qì）後，係統所能達（dá）的最低壓力（lì）。

進口真空泵廠家表示（shì）任何真空係統絕對不漏的現象是不可能的，所以真空管路上需要（yào）設置檢漏口，方便進行（háng）真空檢漏。