等離子刻蝕是太陽能電池片的生產工藝流程之（zhī）一，其他流程有（yǒu）矽片檢測、表麵製絨及酸洗、擴散製結、去磷矽玻璃、鍍減反（fǎn）射膜、絲網印刷、快（kuài）速燒結等。東莞市国产精品亚洲片夜色在线真空科技有限公司旗下的真空係統在等離子刻蝕中的應用是陽能電池片（piàn）製造企業所采（cǎi）用的，因為国产精品亚洲片夜色在线真空係（xì）統具有（yǒu）真空度高、性能穩定、壽命長、操作簡單維（wéi）護（hù）方便，噪音（yīn）少等（děng）特點。

我們先來了解一下等離子刻蝕是一個什麽樣的過程。

由於在擴散過程中，即（jí）使采用背靠背擴（kuò）散，矽片（piàn）的所有表麵（miàn）包括邊緣都將不可避免（miǎn）地擴散上磷。PN結的正麵所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區域流到PN結的背麵，而造成短路（lù）。因此，必須（xū）對太陽（yáng）能電池周邊的摻（chān）雜矽進（jìn）行刻蝕，以（yǐ）去除電池邊緣的PN結。通常采用等離子刻蝕技術完成這一工（gōng）藝。等離子（zǐ）刻蝕是在低壓狀態下，反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發下，產生電離並形成（chéng）等離子體。等離子體是由帶電的電子和離（lí）子組成，反應腔體中的氣體在電（diàn）子的撞擊下，除了轉變成離（lí）子外，還能吸收能量並（bìng）形成大量的活性基（jī）團。活性反應基團由於擴散或者在電場作用下到達SiO2表麵，在那裏與被刻蝕材料（liào）表麵發生化學（xué）反應，並形成揮發（fā）性的反應生成物脫離被刻蝕物質表麵，被（bèi）真空係統抽（chōu）出（chū）腔體。

等離子刻蝕（shí）機結構主要包（bāo）括預真空（kōng）室、刻蝕腔、供氣係統（tǒng）和真空係（xì）統四部分。

1.預真空室（shì）

預真（zhēn）空室的作用是確保刻蝕腔內維持（chí）在設定的（de）真空度，不受（shòu）外界環（huán）境（如：粉塵、水汽）的（de）影響，將危險性氣體與潔淨廠房隔離開來。它由蓋板、機械手（shǒu）、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻蝕腔體是ICP 刻蝕設備的核心結（jié）構，它對刻蝕速率、刻蝕的垂直（zhí）度以及粗糙度都有直接的（de）影響。刻蝕腔的（de）主要組（zǔ）成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單（dān）元、下電極係統、控溫係統等組成。

3.供氣係統

供氣係統是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通（tōng）過壓力控製器（PC）和質（zhì）量流量控製器（MFC）精準的控（kòng）製氣體的流速和流量。氣體供應係統由氣源瓶、氣（qì）體輸送管道、控製係統、混合單元等組成。

4.真空係統

真空係統有兩套，分別（bié）用於預真空室和刻蝕腔體。預（yù）真空室（shì）由機（jī）械泵單獨抽真空，隻有在預真空室真空度達到設定值時，才能打開隔離門（mén），進行傳送（sòng）片。刻（kè）蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應生（shēng）成的氣體也（yě）由（yóu）真空係統排空。

普諾（nuò）克真空係（xì）統在（zài）等離子刻蝕中的應用的作用是可以除去太陽（yáng）電池周邊的在擴散工藝中在矽片的表麵和周邊都擴散了N型結，如果（guǒ）不去除周邊N型結（jié）會導致電池片正負極被周邊N型結連接起來時電池正負極相通起（qǐ）不到電池的作用。如果矽片未刻（kè）蝕（shí）或刻蝕不淨沒及時發現並下（xià）傳印刷（shuā）將產生低並組片。我們（men）可以通過紅外熱成（chéng）像儀檢測並判斷低並組是否由刻蝕原因產生的。